"Kończymy negocjacje z Antonio i Catheriną Zeta Jones. Jeśli oboje będą wolni i wszystko pójdzie zgodnie z planem, rozpoczniemy zdjęcia w Meksyku w kwietniu lub maju 2004 roku" - powiedział Campbell gazecie Calgary Sun.
Obraz zostanie zrealizowany na podstawie nowego scenariusza autorów pierwszego filmu, którymi są Ted Elliott i Terry Rossio ("Shrek", "Piraci z Karaibów").
"W ciągu ostatnich czterech lat odrzuciliśmy kilka skryptów, ale ten ostatni jest wspaniały. Właśnie dzięki niemu projekt otrzymał zielone światło od wytwórni" - tłumaczył nowozelandzki reżyser.
"Mamy wspaniałą rolę dla Catherine. Jej bohaterka jest tym razem zdecydowanie równorzędną partnerką dla Antonia" - dodał twórca.
"Film będzie czymś więcej, niż tylko typowym sequelem. To zupełnie nowy, wielki obraz, wykorzystujący jedynie parę głównych postaci" - zapewnił Martin Campbell.
"Maska Zorro" trafiła na ekrany amerykańskich kin latem 1998 roku, okazując się jednym z największych kasowych przebojów roku, w samych Stanach Zjednoczonych przynosząc niemal 100 milionów dolarów wpływów.
W kontynuacji opowieści, obok Banderasa i Jones, być może ponownie pojawi się także Anthony Hopkins ("Czerwony smok"). Jego bohater, uśmiercony w pierwszym filmie, ma wrócić w retrospekcjach.
"Maska Zorro 2" wejdzie na ekrany światowych kin w 2005 roku.
