Reklama

"Maska Zorro 2": Zdjęcia już wiosną?

Reżyser Martin Campbell ("Granice wytrzymałości") poinformował, że przygotowania do realizacji kontynuacji jego widowiska "Maska Zorro" odbywają się bez komplikacji. Właśnie finalizowane są rozmowy z aktorami - Antonio Banderasem ("Desperado 2") i Catheriną Zeta Jones ("Okrucieństwo nie do przyjęcia") w sprawie ich powrotu do głównych ról. Pierwszy klaps na planie "Maski Zorro 2" padnie już w pierwszej połowie 2004 roku.

"Kończymy negocjacje z Antonio i Catheriną Zeta Jones. Jeśli oboje będą wolni i wszystko pójdzie zgodnie z planem, rozpoczniemy zdjęcia w Meksyku w kwietniu lub maju 2004 roku" - powiedział Campbell gazecie Calgary Sun.

Obraz zostanie zrealizowany na podstawie nowego scenariusza autorów pierwszego filmu, którymi są Ted Elliott i Terry Rossio ("Shrek", "Piraci z Karaibów").

"W ciągu ostatnich czterech lat odrzuciliśmy kilka skryptów, ale ten ostatni jest wspaniały. Właśnie dzięki niemu projekt otrzymał zielone światło od wytwórni" - tłumaczył nowozelandzki reżyser.

Reklama

"Mamy wspaniałą rolę dla Catherine. Jej bohaterka jest tym razem zdecydowanie równorzędną partnerką dla Antonia" - dodał twórca.

"Film będzie czymś więcej, niż tylko typowym sequelem. To zupełnie nowy, wielki obraz, wykorzystujący jedynie parę głównych postaci" - zapewnił Martin Campbell.

"Maska Zorro" trafiła na ekrany amerykańskich kin latem 1998 roku, okazując się jednym z największych kasowych przebojów roku, w samych Stanach Zjednoczonych przynosząc niemal 100 milionów dolarów wpływów.

W kontynuacji opowieści, obok Banderasa i Jones, być może ponownie pojawi się także Anthony Hopkins ("Czerwony smok"). Jego bohater, uśmiercony w pierwszym filmie, ma wrócić w retrospekcjach.

"Maska Zorro 2" wejdzie na ekrany światowych kin w 2005 roku.

INTERIA.PL
Dowiedz się więcej na temat: Antonio Banderas | Martin Campbell | jones | film | maska | Zorro
Reklama
Reklama
Reklama
Reklama
Strona główna INTERIA.PL
Polecamy